Получение тонких пленок реактивным магнетронным распылением (Record no. 921475)

000 -Маркер записи
Контрольное поле постоянной длины 04900nam a22002411 4500
005 - Дата корректировки
Контрольное поле 20240311223924.0
007 - Кодируемые данные (физ. описан.)
Контрольное поле постоянной длины cr bn uu|uu
008 - Кодируемые данные
Контрольное поле постоянной длины 240116 2014 ru 000 rus d
020 ## - Индекс ISBN
ISBN 9785948363691
040 ## - Источник каталогиз.
Служба первич. каталог. RU-ToGUA
Код языка каталог. rus
Служба, преобразующая запись RU-ToGUA
Правила каталог. PSBO
080 ## - Индекс УДК
Индекс УДК 621.78
084 ## - Индекс другой классификации/Индекс ББК
Индекс другой классификации/Индекс ББК 34.65
-- LBC/PL
Источник индекса rubbk
100 1# - Автор
Автор Берлин, Е. В.
Роль лиц 070
9 (RLIN) 440825
245 10 - Заглавие
Заглавие Получение тонких пленок реактивным магнетронным распылением
Физический носитель [Электронный ресурс]
Продолж. заглавия научная литература
Ответственность Е. В. Берлин, Л. А. Сейдман
260 ## - Выходные данные
Место издания Москва
Издательство Техносфера
Дата издания 2014
300 ## - Физическое описание
Объем 256 с.
Иллюстрации/тип воспроизводства схем., табл.
440 #0 - Серия
Серия Мир материалов и технологий
9 (RLIN) 20577
504 ## - Библиография
Библиография Библиогр. в кн
520 3# - Аннотация
Аннотация Книга представляет собой подробное справочное руководство по физическим основам, технологическим особенностям и практическому применению процесса реактивного магнетронного нанесения тонких пленок сложного состава, представляющих собой химические соединения металлов или полупроводников с азотом, кислородом или углеродом. Этот процесс уже широко распространен в электронной промышленности и в других отраслях, где используется нанесение покрытий. В книге обобщено современное состояние этого процесса, приведена обширная библиография.Представлено подробное описание физических процессов, протекающих во время реактивного магнетронного нанесения, и следующих из них технологических особенностей магнетронного нанесения. Особое внимание уделено способам управления процессами реактивного магнетронного нанесения тонких плёнок, обеспечивающих стабильность и воспроизводимость как самого процесса нанесения, так и свойств получаемых пленок.Описаны изменения состава и структуры получаемых пленок и их зависимость от параметров процесса нанесения. Приведена широкая номенклатура получаемых этим способом пленок сложного состава. Рассмотрены модификации этого процесса, различающиеся используемыми источниками питания: постоянного тока, среднечастотных импульсов, импульсов большой мощности и ВЧ. Даны практические рекомендации по освоению известных и разработке новых процессов получения пленок сложного состава методом реактивного магнетронного распыления.Книга рассчитана на специалистов, занимающихся исследованием, разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и нанотехнологии, совершенствованием технологии их производства и изготовлением специализированного оборудования. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.
538 ## - Примечание о системных особенностях
Примечание о системных особенностях Режим доступа: электронная библиотечная система Университетская библиотека ONLINE, требуется авторизация
Унифицированный определитель ресурса (URI) <a href="https://biblioclub.ru/index.php?page=book&id=273784">https://biblioclub.ru/index.php?page=book&id=273784</a>
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Сейдман, Л. А.
9 (RLIN) 452078
856 4# - Электронный адрес документа
URL <a href="https://biblioclub.ru/index.php?page=book&id=273784">https://biblioclub.ru/index.php?page=book&id=273784</a>
Имя сервера/домена Режим доступа: электронная библиотечная система Университетская библиотека ONLINE, требуется авторизация
Справочный текст ЭБС Университетская библиотека онлайн
999 ## - Системные контрольные номера (Koha)
biblionumber (Koha) 921475

No items available.