Физика взаимодействия лазерного излучения и заряженных частиц с поверхностью твердых тел [Электронный ресурс] практикум Г. А. Вершинин
Material type:
TextPublication details: Омск Омский государственный университет им. Ф.М. Достоевского (ОмГУ) 2019Description: 56 с. ил., таблISBN: 9785777923516Subject(s): Учебник для высшей школы | Other classification: 22.311с51я73 | 32.973я73 Online resources: ЭБС Университетская библиотека онлайн Abstract: Представлено описание и методика проведения пяти лабораторных работ, предназначенных для моделирования на ЭВМ некоторых процессов, сопровождающих ионную имплантацию в различные мишени. Каждая работа содержит краткое теоретическое введение к проблеме, описание блоков программы и инструкцию по подготовке исходных данных и проведению модельного эксперимента; контрольные вопросы и список литературы. Целью практикума является углубление знаний по лекционному материалу и освоение студентами методов математического моделирования с использованием современных персональных компьютеров некоторых процессов, сопровождающих прохождение ускоренных частиц в веществе при ионной имплантации.Для магистрантов, обучающихся по направлению Физика, профиль подготовки: Физика полупроводниковых наноструктур, микро- и наноэлектроника, а также для студентов и аспирантов физических и материаловедческих специализаций высших учебных заведений при выполнении выпускных квалификационных работ или проведении НИР.
Библиогр.: с. 51-52.
Представлено описание и методика проведения пяти лабораторных работ, предназначенных для моделирования на ЭВМ некоторых процессов, сопровождающих ионную имплантацию в различные мишени. Каждая работа содержит краткое теоретическое введение к проблеме, описание блоков программы и инструкцию по подготовке исходных данных и проведению модельного эксперимента; контрольные вопросы и список литературы. Целью практикума является углубление знаний по лекционному материалу и освоение студентами методов математического моделирования с использованием современных персональных компьютеров некоторых процессов, сопровождающих прохождение ускоренных частиц в веществе при ионной имплантации.Для магистрантов, обучающихся по направлению Физика, профиль подготовки: Физика полупроводниковых наноструктур, микро- и наноэлектроника, а также для студентов и аспирантов физических и материаловедческих специализаций высших учебных заведений при выполнении выпускных квалификационных работ или проведении НИР.
Режим доступа: электронная библиотечная система Университетская библиотека ONLINE, требуется авторизация
There are no comments on this title.