Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии (Record no. 921474)
[ view plain ]
000 -Маркер записи | |
---|---|
Контрольное поле постоянной длины | 04247nam a22002531 4500 |
005 - Дата корректировки | |
Контрольное поле | 20240311223924.0 |
007 - Кодируемые данные (физ. описан.) | |
Контрольное поле постоянной длины | cr bn uu|uu |
008 - Кодируемые данные | |
Контрольное поле постоянной длины | 240116 2010 ru g 000 rus d |
020 ## - Индекс ISBN | |
ISBN | 9785948362229 |
040 ## - Источник каталогиз. | |
Служба первич. каталог. | RU-ToGUA |
Код языка каталог. | rus |
Служба, преобразующая запись | RU-ToGUA |
Правила каталог. | PSBO |
084 ## - Индекс другой классификации/Индекс ББК | |
Индекс другой классификации/Индекс ББК | 35.115.4я2 |
-- | LBC/PL |
Источник индекса | rubbk |
084 ## - Индекс другой классификации/Индекс ББК | |
Индекс другой классификации/Индекс ББК | 22.373.36я2 |
-- | LBC/PL |
Источник индекса | rubbk |
100 1# - Автор | |
Автор | Берлин, Е. В. |
Роль лиц | 070 |
9 (RLIN) | 440825 |
245 10 - Заглавие | |
Заглавие | Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии |
Физический носитель | [Электронный ресурс] |
Продолж. заглавия | справочник |
Ответственность | Е. В. Берлин, Л. А. Сейдман |
260 ## - Выходные данные | |
Место издания | Москва |
Издательство | Техносфера |
Дата издания | 2010 |
300 ## - Физическое описание | |
Объем | 528 с. |
Иллюстрации/тип воспроизводства | ил.,табл., схем. |
440 #0 - Серия | |
Серия | Мир материалов и технологий |
9 (RLIN) | 20577 |
504 ## - Библиография | |
Библиография | Библиогр. в кн |
520 3# - Аннотация | |
Аннотация | Настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по основным вакуумным плазмохимическим процессам в тонкопленочной технологии - реактивному магнетронному нанесению тонких пленок и ионно-плазменному травлению. В ней обобщено современное состояние этих процессов. Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок и плазмохимических установок для травления тонких пленок. Рассмотрены технологические особенности их использования. Описаны способы управления процессами реактивного нанесения тонких пленок и использования среднечастотных импульсных источников питания. Показаны технологические особенности получения тонких пленок тройных химических соединений методом реактивного магнетронного сораспыления. Описана структура получаемых пленок и ее зависимость от параметров процесса нанесения. Приведены принципы конструирования источника высокочастотного разряда высокой плотности для ионного или плазмохимического прецизионного травления тонких пленок, а также его использования для стимулированного плазмой осаждения тонких пленок. Книга рассчитана на специалистов, занимающихся исследованием, разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и нанотехнологии, совершенствованием технологии их производства и изготовлением специализированного оборудования. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций. |
538 ## - Примечание о системных особенностях | |
Примечание о системных особенностях | Режим доступа: электронная библиотечная система Университетская библиотека ONLINE, требуется авторизация |
Унифицированный определитель ресурса (URI) | <a href="https://biblioclub.ru/index.php?page=book&id=496417">https://biblioclub.ru/index.php?page=book&id=496417</a> |
650 #4 - Тематические рубрики | |
Основная рубрика | Справочник |
9 (RLIN) | 112657 |
700 1# - Другие авторы | |
Другие авторы | Сейдман, Л. А. |
9 (RLIN) | 452078 |
856 4# - Электронный адрес документа | |
URL | <a href="https://biblioclub.ru/index.php?page=book&id=496417">https://biblioclub.ru/index.php?page=book&id=496417</a> |
Имя сервера/домена | Режим доступа: электронная библиотечная система Университетская библиотека ONLINE, требуется авторизация |
Справочный текст | ЭБС Университетская библиотека онлайн |
999 ## - Системные контрольные номера (Koha) | |
biblionumber (Koha) | 921474 |
No items available.