Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии (Record no. 921474)

000 -Маркер записи
Контрольное поле постоянной длины 04247nam a22002531 4500
005 - Дата корректировки
Контрольное поле 20240311223924.0
007 - Кодируемые данные (физ. описан.)
Контрольное поле постоянной длины cr bn uu|uu
008 - Кодируемые данные
Контрольное поле постоянной длины 240116 2010 ru g 000 rus d
020 ## - Индекс ISBN
ISBN 9785948362229
040 ## - Источник каталогиз.
Служба первич. каталог. RU-ToGUA
Код языка каталог. rus
Служба, преобразующая запись RU-ToGUA
Правила каталог. PSBO
084 ## - Индекс другой классификации/Индекс ББК
Индекс другой классификации/Индекс ББК 35.115.4я2
-- LBC/PL
Источник индекса rubbk
084 ## - Индекс другой классификации/Индекс ББК
Индекс другой классификации/Индекс ББК 22.373.36я2
-- LBC/PL
Источник индекса rubbk
100 1# - Автор
Автор Берлин, Е. В.
Роль лиц 070
9 (RLIN) 440825
245 10 - Заглавие
Заглавие Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии
Физический носитель [Электронный ресурс]
Продолж. заглавия справочник
Ответственность Е. В. Берлин, Л. А. Сейдман
260 ## - Выходные данные
Место издания Москва
Издательство Техносфера
Дата издания 2010
300 ## - Физическое описание
Объем 528 с.
Иллюстрации/тип воспроизводства ил.,табл., схем.
440 #0 - Серия
Серия Мир материалов и технологий
9 (RLIN) 20577
504 ## - Библиография
Библиография Библиогр. в кн
520 3# - Аннотация
Аннотация Настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по основным вакуумным плазмохимическим процессам в тонкопленочной технологии - реактивному магнетронному нанесению тонких пленок и ионно-плазменному травлению. В ней обобщено современное состояние этих процессов. Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок и плазмохимических установок для травления тонких пленок. Рассмотрены технологические особенности их использования. Описаны способы управления процессами реактивного нанесения тонких пленок и использования среднечастотных импульсных источников питания. Показаны технологические особенности получения тонких пленок тройных химических соединений методом реактивного магнетронного сораспыления. Описана структура получаемых пленок и ее зависимость от параметров процесса нанесения. Приведены принципы конструирования источника высокочастотного разряда высокой плотности для ионного или плазмохимического прецизионного травления тонких пленок, а также его использования для стимулированного плазмой осаждения тонких пленок. Книга рассчитана на специалистов, занимающихся исследованием, разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и нанотехнологии, совершенствованием технологии их производства и изготовлением специализированного оборудования. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.
538 ## - Примечание о системных особенностях
Примечание о системных особенностях Режим доступа: электронная библиотечная система Университетская библиотека ONLINE, требуется авторизация
Унифицированный определитель ресурса (URI) <a href="https://biblioclub.ru/index.php?page=book&id=496417">https://biblioclub.ru/index.php?page=book&id=496417</a>
650 #4 - Тематические рубрики
Основная рубрика Справочник
9 (RLIN) 112657
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Сейдман, Л. А.
9 (RLIN) 452078
856 4# - Электронный адрес документа
URL <a href="https://biblioclub.ru/index.php?page=book&id=496417">https://biblioclub.ru/index.php?page=book&id=496417</a>
Имя сервера/домена Режим доступа: электронная библиотечная система Университетская библиотека ONLINE, требуется авторизация
Справочный текст ЭБС Университетская библиотека онлайн
999 ## - Системные контрольные номера (Koha)
biblionumber (Koha) 921474

No items available.